煙（yān）台電鍍鎳鍍（dù）液中銅（tóng）離子雜（zá）質的去除方法多樣，需根據銅離子含量、鍍液狀態及生（shēng）產需求選擇合適（shì）方法，以下是具體介紹：
煙台電鍍鎳——鎳鍍液化學（xué）沉澱（diàn）法：
喹啉酸沉澱法：加（jiā）入約為含（hán）銅量兩倍（克分子比）的（de）喹啉酸，使銅離子（zǐ）生成沉（chén）澱。過濾後，鍍液中銅含（hán）量可降至（zhì）1mg/L以下。
亞鐵氰化鈉沉澱（diàn）法：向鍍液中加（jiā）入溶解（jiě）好（hǎo）的亞鐵氰化鈉溶液，劇（jù）烈攪拌約（yuē）30min，銅離子與亞鐵氰化鈉反應生成亞鐵氰化銅沉澱。過濾除（chú）去沉澱，即可試鍍。
QT或CF除銅劑（jì）處理法：在（zài）不斷攪拌下，緩緩加入1~2mg/L的（de）商品QT或CF除銅劑，攪拌1~2h後，過濾除去紅棕色沉（chén）澱物。
煙台
電鍍鎳——鎳鍍液電（diàn）解法（fǎ）：
低電流密度電解（jiě）：用低電流密度（如0.05~0.1A/dm2）使鍍液中的銅離子沉積在處理陰板（bǎn）上。陰板可采用波紋板、鋸齒板（bǎn）和平麵板三種（zhǒng）型式，其（qí）中波紋板能使銅離子和其（qí）他金屬雜質同時沉積，達到去除多種雜質的（de）目的。
電解（jiě）條件控製：電解處（chù）理時，電流（liú）密（mì）度、溫度和pH值的選擇需根據（jù）電鍍時雜質起不良影響的（de）範圍確定。例如，去除
鍍鎳溶液中（zhōng）的銅（tóng）雜質時，可選用低pH進行電解，以提高去除（chú）雜質（zhì）的速率。
煙台（tái）
電（diàn）鍍鎳——鎳鍍液掩蔽（bì）劑處理法：
中間體掩蔽劑：常用的中間體（tǐ）有PN（羥甲基磺酸鈉）、SSO（羥（qiǎng）丙基硫代硫酸鈉）、ATP（S-羧乙（yǐ）基異硫脲（niào）鈉氯化物（wù））等。這些中間體能絡（luò）合銅、鋅、鉛（qiān）等金屬離子（zǐ），掩蔽少量銅及其他雜質，不（bú）必過濾（lǜ），可立即消除銅等雜質在低電流密度區的發灰、發黑現象。
掩蔽（bì）劑添加（jiā）量：掩蔽劑的添加量需根據（jù）雜（zá）質含量確定。例如，PN的用量為0.01~0.1g/L，SSO的用量為0.001~0.02g/L，ATP的用量為0.001~0.01g/L。
